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中微公司(688012):24Q1刻蚀收入高增长 沉积新品拓展稳步推进

2024-5-14 15:17| 发布者: 神童股手| 查看: 39| 评论: 0

摘要:   核心观点:   24Q1 刻蚀业务收入高增长,研发投入和非经常损益短期拖累利润表现。公司发布24 年一季报。24Q1,公司营收16.05 亿元,yoy+31.23%,公 ...
  核心观点:

      24Q1 刻蚀业务收入高增长,研发投入和非经常损益短期拖累利润表现。公司发布24 年一季报。24Q1,公司营收16.05 亿元,yoy+31.23%,公司针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升,24Q1 刻蚀设备收入13.35 亿元,yoy+64.05%;归母净利润2.49 亿元,yoy-9.53%,主要原因一方面是公司积极推动多款新产品研发,研发材料投入增加和研发人员增加下职工薪酬增长,Q1研发投入同比增长较多,另一方面非经常性损益为亏损0.14 亿元,yoy-0.61 亿元。非经常性损益的变动主要系:(1)由于24Q1 二级市场股价下跌,公司持有的以公允价值计量的股权投资本期公允价值减少4077 万元,yoy-0.41 亿元;(2)本期计入非经常性损益的政府补助0.14亿元,yoy-0.23 亿元;扣非归母净利润2.63 亿元,yoy+15.4%;毛利率44.94%,yoy-0.94pct;净利率15.5%,yoy-6.98pct。

      高端刻蚀产品进展领先,沉积新品拓展稳步推进。根据公司23 年报及24 年一季报,公司刻蚀设备覆盖国内95%以上的应用需求,部分机台应用于5nm 等先进制程,公司大力投入先进芯片制造关键刻蚀设备的研发和验证,目前针对逻辑和存储芯片制造中最关键刻蚀工艺的多款设备已经在客户产线上展开验证。沉积业务方面,公司钨系列薄膜沉积产品已完成多家逻辑和存储客户对CVD/HAR/ALD W 钨设备的验证,取得了客户订单;公司计划在 24 年推出超过 10 款新型薄膜沉积设备,增加薄膜设备的覆盖率,进一步拓展市场。

      盈利预测与投资建议。预计公司24-26 年归母净利润20.23/25.91/33.07 亿元,维持公司合理价值222.62 元/股的观点不变,对应24 年68 倍PE,维持“买入”评级。

      风险提示。行业周期波动;客户拓展不及预期;市场竞争加剧。

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