| 利好突袭！半导体“大牛股”发布“炸裂”业绩：净利暴增1324%！年内股价已翻倍，市值近2000亿元 8月20日晚，拓荆科技(SH688072，股价671.26元，市值1951.21亿元)发布2026年半年度报告。报告期内，公司实现营业收入29.13亿元，同比增长49.06%；实现归母净利润13.43亿元，同比增长1324.10%；实现扣非后净利润3.67亿元，同比增长861.92%。 公司同时披露2026年半年度利润分配预案，拟向全体股东每10股派发现金红利3.50元(含税)，合计拟派发现金红利约1.01亿元，占报告期归属于上市公司股东净利润的比例为7.54%。  图片来源：公告截图 上半年营收净利大幅增长 报告期内，拓荆科技营业收入同比增长49.06%，主要得益于公司先进产品批量通过客户验证，业务规模和收入快速增长。其中，PECVD系列设备持续保持竞争优势，应用于先进存储、先进逻辑等领域的PECVD Stack(ONO叠层)、ACHM系列工艺等产品已进入规模化量产阶段，OPN、SiB及PECVD Bianca等产品不断扩大量产规模并实现收入转化；ALD系列设备在先进存储领域量产规模快速攀升，多台PE-ALD SiO2、SiCO等工艺设备在客户端完成重复订单验证并实现收入转化。 归母净利润同比增长1324.10%，主要系营业收入大幅增长、毛利率同比提升约9个百分点，叠加交易性金融资产产生的公允价值变动收益较上年同期增加约9.60亿元所致。 报告期内，公司基本每股收益为4.77元，加权**均净资产收益率为18.11%，研发投入占营业收入比例为14.52%。  图片来源：公告截图 值得注意的是，公司经营活动产生的现金流量净额为1.15亿元，同比减少92.63%，主要系销售回款阶段性降低、采购付款及支付的各项税费增加、职工薪酬增加等因素所致。 深耕薄膜沉积设备 年内股价翻倍 拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务，重点聚焦薄膜沉积设备和应用于三维集成领域的先进键合设备及配套量检测设备。 公司目前已形成PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、Flowable CVD等薄膜沉积设备产品，以及晶圆对晶圆混合键合、晶圆对晶圆熔融键合、芯片对晶圆混合键合、芯片对晶圆熔融键合等三维集成设备产品，广泛应用于先进存储、先进/成熟逻辑、先进封装、功率器件、Micro-OLED、硅光技术、图像传感器等领域。 二级市场上，今年以来拓荆科技股价表现强势。年初至今累计上涨103.62%。(每·日·经·济·新·闻黄胜) |
