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半导体设备行业 :65NM ARF光刻机官宣 国产光刻机行则将至

2024-9-19 11:13| 发布者: 神童股手| 查看: 149| 评论: 0

摘要: 事件点评 65nm ArF 光刻机官宣,参数对标ASML1460K 及Nikon S322F。为促进首台(套)重大技术装备创新发展和推广应用,加强产业、财政、金融、科技等国家

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