半导体设备行业：浸润式光刻机进口处处受限静待28NM光刻

2023-8-4 11:40| 发布者: 神童股手| 查看: 121| 评论: 0

摘要: 事件点评据21ic 电子网援引《新华网》7 月31 日消息，上海微电子正致力于研发28nm 浸没式光刻机，预计在2023 年年底将国产第一台SSA/800-10W 光刻机设备

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半导体设备行业 ：浸润式光刻机进口处处受限 静待28NM光刻