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国产磷化铟取得重大突破,国产替代有望加速

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发表于 2025-8-21 09:15 | 显示全部楼层 |阅读模式

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  消息显示,国内半导体行业大尺寸磷化铟(InP)材料制备领域取得重大突破。8月19日,湖北九峰山实验室公布,近日,该实验室成功开发出6英寸磷化铟基PIN结构探测器和FP结构激光器的外延生长工艺,关键性能指标达到国际领先水平。

  光大证券认为,此次技术突破,标志着我国首次实现从核心装备到关键材料(磷化铟衬底)的全链路国产化协同应用,填补了国内大尺寸InP材料制备的空白;同时,此次技术突破直接推动磷化铟材料应用场景扩容。

  此前全球6英寸InP产能主要来自于美国Coherent,此次突破使中国跻身全球化合物半导体第一梯队,为光芯片、射频器件等高端领域国产化奠定基础。

  同时,上游的铟金属行业将同步受益于磷化铟材料的放量。铟作为磷化铟的核心原材料,全球储量约5万吨且高度集中于中国(占比72.7%),主要分布在云南、广西、内蒙古等地。

  目前,铟已被中国、欧盟、美国和日本等先后列为关键矿产,是当今世界第四次科技革命不可替代的原材料之一,具有极其重要的战略价值。

  2025年2月中国实施铟出口限制后,国际铟价出现了明显上涨。随着半导体材料的国产化,将进一步拉动本土铟资源需求。

  展望后市,机构预计,全球磷化铟光电子市场规模预计从2022年的30亿美元增至2027年的56亿美元,年复合增长率14%。落脚到A股市场,光大证券认为,随着技术的突破,磷化铟的国产替代有望加速,关注布局磷化铟及上游的铟金属相关上市公司。
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